光電行業用超純水設備

　　光電行業用超純水設備在設計上，采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。

　　關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　　我們公司專業生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，尤其在電控系統PLC方面在水處理行業技術都是比較成熟，我們也有做過很多各行業的水處理設備，這方面我們有豐富的經驗。我們公司做出來的設備質量比他們都有優勢，在國內具有一定的市場竟爭力。該產品由于具備性能好、價格低于國外同類產品價格、供貨及時、售后服務方便快捷等諸多優勢。在LED、LCD、半導體、光電等行業，得到了業界的廣泛贊譽，歡迎廣大客戶前來參觀考察。益民爭創業內水處理第一品牌，竭誠為新老客人提供優質產品和技術服務！光電行業用超純水設備,光電超純水設備,光電超純水處理設備詳細資料請在本頁面底部下載。

一、光電行業用超純水水質標準：
　　我公司電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

二、光電行業用超純水對水質的要求：

　　新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

三、應用場合：

　　☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
　　☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
　　☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
　　☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
　　☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
　　☆晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
　　☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片
　　☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
　　☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
　　☆高品質顯像管、螢光粉生產
　　☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
　　☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
　　☆實驗室和中試車間
　　☆汽車、家電表面拋光處理
　　☆光電產品、其他高科技精微產品

四、典型光電行業用超純水，純水設備，超純水設備用超純水制備工藝：

　　1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝)
　　2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝)
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(最新工藝)
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)